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激光直写及制版光刻

激光直写及制版光刻

基于空间光调制器或扫描振镜的激光直写光刻系统,凭借其无需掩模、灵活可编程的图形化能力,在衍射光学元件、灰度光刻、微光学结构及制版光刻等领域实现了亚微米级精度的二维与准三维结构加工。该类技术对运动平台的定位精度、扫描平稳性及多轴协同性能提出严苛要求,尤其在大面积拼接曝光、纳米级自动对焦与角度对准等关键环节。

地心科技提供的CFT-XY一体式平台、Surface系列平面气浮平台以及高精度转台,具备纳米级分辨率、亚微米级重复定位精度与优异的动态响应特性,能够全面满足激光直写及制版光刻中对高速图形写入、精密调焦与多自由度对准的严格要求。


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